| 1 |
introduction |
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26분 |
| 2 |
A&D 작업환경의 설정 |
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35분 |
| 3 |
Linear Gamma Rendering (1) |
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36분 |
| 4 |
Linear Gamma Rendering (2) |
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32분 |
| 5 |
Mia Exposure Simple Node (1) |
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39분 |
| 6 |
Mia Exposure Simple Node (2) |
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31분 |
| 7 |
Mia Exposure Simple Node (3) |
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30분 |
| 8 |
Mia Material X의 기본 (1) |
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34분 |
| 9 |
Mia Material X의 기본 (2) |
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34분 |
| 10 |
Mia Material X의 기본 (3) |
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42분 |
| 11 |
Mia Material X의 기본 (4) |
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30분 |
| 12 |
Mia Material X의 BRDF |
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36분 |
| 13 |
Mia Material의 굴절(1) |
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35분 |
| 14 |
Mia Material의 굴절(2) |
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28분 |
| 15 |
Mia Material X의 Translucency(투과) |
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39분 |
| 16 |
Mia Material X의 anisotory |
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35분 |
| 17 |
Mia Material의 Ambient Occlusion |
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36분 |
| 18 |
Mia Material X의 Bump |
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32분 |
| 19 |
Mia Material X의 Advanced 기능 |
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26분 |
| 20 |
Mia Material X의 interpolation |
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35분 |
